KRISS^ 진공장비 오염입자 제어기술 개발
대전 대덕연구개발특구 내 한국표준과학연구원(KRISS)은 27일 진공기술센터 강상우 박사팀이 진공장비의 오염입자에 대한 측정과 제어, 제거가 모두 가능한 기술 개발에 성공했다고 밝혔다.
기존의 외국산 장비는 오염입자에 대한 측정만 할 수 있지만, 이번에 개발된 장비는 측정에서부터 제어, 제거에 이르기까지 모든 공정이 가능하며, 가격도 외국산의 절반 이하 수준이다.
기존 반도체, 디스플레이 등 광학기를 사용하는 산업체에서는 오염 입자를 측정할 때 레이저를 윈도에 투과시켜 오염물질의 양과 크기를 측정해야 하는데 윈도에 묻어있는 오염물질 때문에 레이저가 드나들 수 없어 어려움을 겪었다.
연구팀은 광학기 내부 윈도의 오염물질을 제거할 수 있는 모듈을 개발, 장착해 오염물질이 부착되지 않고 부착된 오염물질 또한 쉽게 제거돼 레이저 투과율이 완벽하게 유지되는 것을 확인했으며, 관련 기술 2건에 대해 특허 출원을 마쳤다.
강상우 박사는 "이번 기술 개발을 통해 광학장비의 클리닝 주기를 연장함으로써 관련 산업 현장에서의 장비 활용도가 높아져 생산성 향상이 기대된다"며 "앞으로 개발한 모듈들의 크기를 더욱 작게 만들어 장치설치에 대한 제약을 줄이고, 초음파의 전달 효율을 극대화 할 수 있는 기술 개발도 추진할 계획"이라고 말했다.