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세원하드페이싱, 日 수입의존 반도체 공정용 코팅 소재 국산화 성공

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    세원하드페이싱, 日 수입의존 반도체 공정용 코팅 소재 국산화 성공

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    국책연구소와 공동연구개발 통하여 세계 최초 반도체용 코팅소재 개발 성공

    세원하드페이싱, 日 수입의존 반도체 공정용 코팅 소재 국산화 성공 (사진=전남테크노파크 제공)
    세라믹산업종합지원센터 성장사다리 육성기업 ㈜세원하드페이싱이 최근 일본 수입의존소재 대체품에 대하여 개발에 성공했다.

    ㈜세원하드페이싱은 용사코팅 전문업체로 2012년 전남테크노파크 목포 세라믹지원센터에 입주하여 센터에 구축된 첨단 장비로 용사코팅 연구개발을 시작했다.

    2016년 전남 목포 세라믹산업단지에 50억 원을 투자하여 극한환경용 YSZ 용사코팅소재 양산화에 성공했으며, 최근 개발된 반도체용 Y2O3 코팅소재의 양산화를 위해 30억 원의 투자를 완료했다.

    이번에 개발한 Y2O3 (Yttrium Dioxide) 코팅 소재는 반도체 공정 장비에 적용되는 소재로서, 전량 일본의 수입에 의존하고 있는 소재이다.

    개발된 핵심 기술은 반데르발스인력(분자간의 작용하는 힘)으로 인한 분말 응집을 플라즈마에서 해리된 기체 이온이 분말 표면에 흡착되어, 분말끼리 서로 밀어내는 특성을 부여하는 기술로서 미세(작은) 분말이라도 응집되지 않아 흐름성이 높아지는 특징을 가진다.

    기존 제품은 반데르발스 인력으로 인해 분말이 응집되는 현상 때문에 치밀한 코팅막을 형성할 수 있는 미세한(작은) 분말을 제조할 수 없다는 한계가 있었다.

    ㈜세원하드페이싱은 용사코팅 소재인 분말을 미세하게(작게) 제조할 수 있는 기술을 독자 개발에 성공한 이후, 국가핵융합연구소 홍용철 박사팀과 공동 연구 개발을 통해 기존 코팅 소재의 가장 큰 걸림돌인 분말 응집 문제를 해결했다.

    또한 개발된 코팅 소재를 용사코팅에 접목시킴으로써, 기존보다 치밀한 코팅막을 구현할 수 있다는 것을 국내 여러 코팅업체를 통해 품질 및 신뢰성을 검증받았다.

    핵심기술의 권리 보호를 위하여 미국, 일본, 한국에 특허 출원을 완료한 상태이다.

    ㈜세원하드페이싱 문흥수 연구소장은 "국가기술개발사업과 연구소와의 협업을 통해 기술개발 및 국산화를 이룰 수 있었다"며, "이번 소재 국산화를 시작으로, 다른 분야의 코팅 소재에 응용 가능성을 확인했다"고 말했다.

    전남테크노파크 유동국 원장은 "㈜세원하드페이싱의 일본 수입 의존 제품 국산화의 성공을 축하드린다"며, "전남테크노파크는 일본 수출 규제에 따른 전남의 중소기업 피해 최소화를 위해 일본 수출규제 애로지원센터를 운영할 계획이며, 수입의존 제품 국산화 기업지원 정책을 산업현장에 신속하게 적용해 나가겠다고"고 말했다.

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